日本hiroshimamm納米分散用濕法微珠磨機(jī)ADV

產(chǎn)品型號(hào)： Ultra Apex Mill Advance

所屬分類：

產(chǎn)品時(shí)間：2024-09-06

簡(jiǎn)要描述：日本hiroshimamm納米分散用濕法微珠磨機(jī)ADV
在我們的產(chǎn)品線中，損傷分散小的珠磨機(jī)。針對(duì)“超低損傷納米顆粒分散體"進(jìn)行了優(yōu)化的濕微珠磨機(jī)，是使用φ15μm至φ50μm磁珠進(jìn)行低沖擊攪拌的設(shè)備，這是一種先進(jìn)的寬分離器三角磨機(jī)。

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日本hiroshimamm納米分散用濕法微珠磨機(jī)ADV

一liu的超低沖擊濕法微珠磨機(jī)，用于納米分散

總覽

　在我們的產(chǎn)品線中，損傷分散小的珠磨機(jī)。針對(duì)“超低損傷納米顆粒分散體”進(jìn)行了優(yōu)化的濕微珠磨機(jī)，是使用φ15μm至φ50μm磁珠進(jìn)行低沖擊攪拌的設(shè)備，這是一種先進(jìn)的寬分離器三角磨機(jī)。
　帶有新設(shè)計(jì)的平面攪拌器/珠分離轉(zhuǎn)子的濕珠磨機(jī)可實(shí)現(xiàn)低離心力處理。通過(guò)減小從珠粒到納米顆粒的沖擊力，同時(shí)保持珠粒的足夠的攪拌速度，在維持每單位珠粒量的加工速度的同時(shí)，對(duì)納米顆粒的損害小化。
　另外，為了滿足xin的納米分散需求，轉(zhuǎn)子設(shè)計(jì)使研磨機(jī)中珠粒的攪拌能量均勻，從而可以進(jìn)行均勻的分散處理。

特征

1.可以分散gao級(jí)別超低損傷納米顆粒的珠磨機(jī)！

珠磨機(jī)，即使使用軟顆粒或納米顆粒的漿液，也可以進(jìn)行超低沖擊處理，并且可以進(jìn)行納米分散處理且損傷小。它可以用于分散軟納米顆粒，例如100 nm級(jí)鈦酸鋇和有機(jī)顏料，而傳統(tǒng)的珠磨機(jī)無(wú)法對(duì)其進(jìn)行適當(dāng)處理。

2.通過(guò)分散處理納米顆粒漿料抑制粘度和凝膠化的增加！

這是一種珠磨機(jī)，可以將由于顆粒破壞而產(chǎn)生的細(xì)小碎片抑制到小，即使使用納米顆粒也可以抑制漿料的粘度和凝膠化。在確保漿料的流動(dòng)性和改善長(zhǎng)期保存期間的產(chǎn)品漿料的穩(wěn)定性方面是有效的。

3.納米粒子的粒度分布可以變得更銳利！

由于在珠磨機(jī)中的攪拌功率高度均勻，因此在漿料中的分散度均勻，并且可以抑制顆粒碎屑，因此即使使用幾十nm的納米顆粒，也可以獲得清晰的粒徑分布?？梢蕴岣弋a(chǎn)品性能，并且可以在批量生產(chǎn)條件下復(fù)制產(chǎn)品設(shè)計(jì)時(shí)預(yù)期的產(chǎn)品性能。

運(yùn)行條件

可用磁珠直徑

Φ15μm?Φ0.3毫米

珠粒分離器圓周速度

6m /秒至18m / s

應(yīng)用實(shí)例和終產(chǎn)品實(shí)例

高粘度支撐

光學(xué)材料（氧化鋯和二氧化硅在樹(shù)脂原料中的納米分散體），導(dǎo)電涂料，化妝品（氧化鈦和氧化鋅在油中的分散體）等。

支持低損傷擴(kuò)散

電子材料（鈦酸鋇，中空二氧化硅），電極材料（納米銀，鎳等），熱射線阻擋材料（ITO等），光催化劑（氧化鈦），
液晶顏料等。

介紹Apex Mill系列的產(chǎn)品陣容

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